- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計(jì)
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
本設(shè)備為桌面型下置靶不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備。
本套配置采用高真空不銹鋼腔體，腔體設(shè)置帶擋板的石英觀察窗，便于實(shí)驗(yàn)的觀察記錄；腔體設(shè)計(jì)真空性能優(yōu)良，造型小巧，十分適合實(shí)驗(yàn)室使用。
設(shè)備采用下置靶設(shè)計(jì)，和上置靶相比這種設(shè)計(jì)能夠更好的規(guī)避屏蔽罩因長時(shí)間鍍膜而產(chǎn)生的薄膜碎片脫落的問題，可以更有效的保護(hù)樣品。
同時(shí)設(shè)備配有旋轉(zhuǎn)加熱樣品臺，可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質(zhì)量。整機(jī)采用模塊化設(shè)計(jì)，操作邏輯簡單，操作界面直觀，利于上手。
單靶磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù)：
|
產(chǎn)品名稱 |
桌面型下置靶不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀 |
|
|
產(chǎn)品型號 |
CY-MSZ180X-I-DC-SS |
|
|
樣品臺 |
外形尺寸 |
φ100mm |
|
加熱溫度 |
≦500℃ |
|
|
可調(diào)轉(zhuǎn)速 |
≦20rpm |
|
|
磁控靶槍 |
配一支兩英寸磁控靶，靶材尺寸:直徑50.8mm，厚度≦3mm |
|
|
真空腔體 |
腔體尺寸 |
φ180mm X 215mm |
|
觀察窗口 |
全向透明 |
|
|
腔體材料 |
SUU304不銹鋼 |
|
|
開啟方式 |
上頂開式 |
|
|
真空系統(tǒng) |
前級泵 |
低噪音雙極旋片泵 |
|
分子泵 |
低噪音大抽速渦輪分子泵 |
|
|
真空測量 |
復(fù)合真空計(jì)，量程:10-5~105Pa |
|
|
抽氣接口 |
KF16 |
|
|
抽氣接口 |
KF40 |
|
|
排氣接口 |
KF16 |
|
|
系統(tǒng)真空 |
1.0×10-4Pa |
|
|
供電電源 |
AC 220V 50/60Hz |
|
|
抽氣速率 |
分子泵抽速600L/s，前級泵抽速1.1L/s |
|
|
電源配置 |
電源數(shù)量 |
直流電源一套 |
|
輸出功率 |
300W |
|
|
其他參數(shù) |
供電電壓 |
AC220V,50Hz |
|
整機(jī)功率 |
2kW |
|
|
整機(jī)尺寸 |
550mm X 350mm X400mm |
|
